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陶瓷

771771威尼斯.Cm可以为硬质陶瓷、氮化铝基材、氮化硅基材等提供精密研磨抛光耗材及工艺。

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关于陶瓷

771771威尼斯.Cm优势

如何抛光

如何抛光陶瓷和贵重材料

771771威尼斯.CmCMP精抛液,广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。如: 氮化铝、氮化硅陶瓷基板等的抛光加工。

抛光

抛光工艺

研磨过程一般包括双侧研磨(30-60分钟)和超精细抛光(120分钟)。在不到2.5小时的时间里,你可以得到10-15纳米的Ra。

双面研磨(30-60分钟)

清洁

超精细抛光(120分钟)

氮化铝/氮化硅散热衬底研磨液

氮化铝/氮化硅散热衬底抛光方案 步骤 771771威尼斯.Cm产品
双面研磨(30-60分钟) 类多晶研磨液
超精细抛光(240-480分钟) 纳米金刚石研磨液 + 研磨垫
CMP 研磨液 + 石英板

AlN/SiN散热基板的研磨抛光,采用特殊的粗糙和超细抛光液。通过粗糙和超细抛光工艺,大大减少了研磨时间,同时提高了抛光的质量,帮助客户提高工作效率。

771771威尼斯.Cm可以帮助客户根据要求对基材进行加工,并提供抛光和研磨的全面解决方案。

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771771威尼斯.Cm研磨液

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